芯片制造工艺发展到28纳米以下技术节点时面临着诸多挑战，但一项通常被忽视的技术变得异常困难，却又对工艺控制尤为重要，这就是半导体光学量测与检测技术。

在14纳米和10纳米以下的芯片技术节点，需要采用更小尺寸的三维FinFETs场效应晶体管，它有各种各样复杂的三维结构和而难以量测的薄膜，并与混入的新材料紧密集成在一起，结构尺寸常常小到10埃 (1纳米)，对微观量测技术提出了更高的挑战。

匠岭半导体从事半导体光学量测和检测装备的研发、制造和销售； 主要产品涵盖半导体光学薄膜量测机台、半导体光学线宽量测机台，半导体光学缺陷检测机台等；

公司研发团队实力雄厚，60%以上具有博士及硕士学位，注重核心技术自主研发的同时，积极布局全球化技术合作和市场开发，已在多个光学量测与检测领域获得技术突破，并获得来自国内外多家客户的正式订单。