匠心成就“芯”未来

专注半导体微观量测技术创新

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2019年4月,匠岭半导体入驻常熟国家高新区嘉地欧美产业园,园区坐落在高新区中轴线东南大道上,是由新加坡新中联集团打造的高品质产业园区,总占地409亩,已有多家欧美日知名企业入驻,总销售额超100亿元;园区周边环境优美,景色宜人,人才集聚,技术创新氛围浓厚

以客户需求为导向

遵循半导体产业发展规律,以市场和客户需求为导向,持续研发创新,满足客户不断提升的的技术需求

不停歇的技术创新

通过持续新技术研发,在膜厚量测方面已经实现了25um微光斑和10Å超薄膜量测的新世代量测技术突破

注重知识产权

注重对知识产权 (IP) 这一重要战略资源的管理和保护,尊重他人知识产权,并注重对自主专利权的保护

多元化融合

面对深度全球化的半导体产业,多元化融合的发展战略,能够帮助企业更快地适应全球化合作的产业生态

关于匠岭

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Metrology solutions

for advanced packaging

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新闻资讯

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芯片制造工艺发展到28纳米以下技术节点时面临着诸多挑战,但一项通常被忽视的技术变得异常困难,却又对工艺控制尤为重要,这就是半导体光学量测与检测技术。

在14纳米和10纳米以下的芯片技术节点,需要采用更小尺寸的三维FinFETs场效应晶体管,它有各种各样复杂的三维结构和而难以量测的薄膜,并与混入的新材料紧密集成在一起,结构尺寸常常小到10埃 (1纳米),对微观量测技术提出了更高的挑战。

匠岭半导体从事半导体光学量测和检测装备的研发、制造和销售; 主要产品涵盖半导体光学薄膜量测机台、半导体光学线宽量测机台,半导体光学缺陷检测机台等;

公司研发团队实力雄厚,60%以上具有博士及硕士学位,注重核心技术自主研发的同时,积极布局全球化技术合作和市场开发,已在多个光学量测与检测领域获得技术突破,并获得来自国内外多家客户的正式订单。

产品与技术

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基于反射谱的薄膜测厚仪,适用于介质、半导体、薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。它是基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数(折射率n,消光系数k)。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱,用相应的软件来拟合运算,得到单层或多层膜系各层厚度、折射率n (λ) 和消光系数k (λ) 等数据。

反射谱量测半导体薄膜膜厚

芯片制造商在28nm工艺节点以下引入FinFET三维电晶体结构,FinFET有着各种各样复杂的三维结构和难以量测的薄膜,其三维结构尺寸常常会小至10埃 (1纳米)并对量测技术提出挑战。OCD光学线宽量测技术应用于三维特征尺寸量测和对复杂轮廓进行分析,并且可以提供包括Footing、Notch、Undercut以及Sidewall角度等结构细节,同时也能计算出蚀刻深度。

散射量测半导体光学特征尺寸

光学宏观缺陷检测技术应用于半导体晶圆和封装的缺陷检测,其工作原理就是将实际图像与标准图像进行比较和对比分析。其核心是光学摄像系统抓取图片,然后通过图像处理卡与计算机处理软件系统等一系列的算法处理后,与标准图像进行对比,辨别缺陷并生成报告。光学缺陷检测是集精密机械、自动控制、光学图像处理、软件系统等多学科的检测技术。

半导体宏观光学缺陷检测

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